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鹵素氧彈測試前處理裝置

2021-11-15  來自: 鶴壁市華晨電子科技有限公司 瀏覽次數(shù):554

鹵素氧彈前處理裝置

素氧彈測試前處理裝置使用注意事項簡介: 

1、無論何時都應避免交替測量高濃度和低濃度鹵素含量。

2、氧彈內(nèi)表面的離子殘留痕跡很難沖洗,且觀察到殘留的元素會有從一個樣品傳遞到另一個樣品的傾向。

3、含有高濃度的鹵素的樣品在低濃度樣品之前測試時,下個樣品應重復試驗。

4、獲得一個或兩個較低的值時,如果它們不符合本方法的再現(xiàn)性的限值時,應當認為是可疑的,每個樣品之間加入一個空白試驗是一種良好的操作,非被分析的一系列樣品的濃度相似。

5、當樣品的組分或均勻性未知時,需要是重復分析樣品或三次分析樣品,然后報告時取所有測量的平均值。

注: 收集消耗氣體的殘留以及隨后空白樣品的吸收液是有意義的。

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